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ASML的光刻机是半导体生产的关键设备，它借助将光源投射到光刻胶上来转移图像，并进一步在硅片表面上形成微米到纳米级别的精细图案。这台设备以其高精度、快速效率以及卓越的分辨率而广受赞誉，在芯片制造等多个领域都有广泛应用。它通过精确调控光源及掩模版的运动，实现在硅片表面的图案化处理，是半导体制造过程中必不可少的一种工具，对于提升芯片的性能表现和集成密度具有至关重要的作用。
中国拥有多台阿斯麦尔光刻设备，众多本土的半导体企业，如中芯国际，已经大量采购了阿斯麦尔公司的此类机器。然而，受到美国对中国实施的制裁影响，最尖端的极紫外光刻机并未允许向中国市场出售。因此，尽管中国能够获取较为先进的光刻技术，但获取最为顶尖的技术则面临较大困难。
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