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当前，阿斯麦所推出的光刻机精度已达90纳米。伴随着科技进步，光刻机的制造工艺持续进化，进而使得制造更微小尺寸的芯片成为可能。90纳米光刻技术已在半导体行业中得到广泛应用，成功制造出了拥有更优性能和更多功能的芯片。不过，随着市场对更小型化芯片需求的增长，光刻技术也随之持续升级换代。如今，更为尖端的光刻设备已能实现亚纳米级别的精细加工，例如最新推出的7纳米和5纳米技术等。
荷兰的阿斯麦尔光刻机在其国内完成组装，拥有高达十万件组件，众多关键部件均源自全球各地的顶级科技成果。这其中包括了采用美国制造的激光光源，德国蔡司精密的镜头，以及日本先进的电机等。值得一提的是，阿斯麦尔光刻机所使用的、精度达到13.5纳米级别的极紫外光光源，是由美国公司Cymer所提供的。
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